镇江焚烧废气处理投资成本小 镇江焚烧废气处理成本小wutianhuan 废气处理设备处理原理，废气处理设备稀释扩散法原理：将有臭味地气体通过烟囱排至大气，或用无臭空气稀释，降低恶臭物质浓度以减少臭味。适用范围：适用于处理中、低浓度的有组织排放的恶臭气体。优点：费用低、设备简单。缺点：易受气象条件限制，恶臭物质依然存在。活性炭吸附塔设备特点：有机废气活性碳吸附塔广泛用于家具木业、化工涂料、金属表面处理等喷涂、喷漆、烘干等产生有机废气及异味场所，采用优质吸附活性碳作为吸附媒介，有机废气通过多层吸附层进行过滤吸附，从而达到净化废气的目的。?工艺(主要技术)特点：?◆?分为手动式和自动式两种，结构紧凑一体化，易于安装和操作维护；?◆?滤速高，处理量大，运行效果稳定，设备占地少；?◆?滤料截污容量大，孔隙率高，耐摩擦，比重适中。吸附现象是发生在两个不同相界面的现象，吸附过程就是在界面上的扩散过程，是发生在固体表面的吸附，这是由于固体表面存在着剩余的吸引力而引起的。吸附可分为物理吸附和化学吸附；物理吸附亦称范德华吸附，是由于吸附剂与吸附质分子之间的静电力或范德华引力导致物理吸附引起的，当固体和气体之间的分子引力大于气体分子之间的引力时，即使气体的压力低于与操作温度相对应的饱和蒸气压，气体分子也会冷凝在固体表面上，物理吸附是一种放热过程。化学吸附亦称活性吸附，是由于吸附剂表面与吸附质分子间的化学反应力导致化学吸附，它涉及分子中化学键的破坏和重新结合，因此，化学吸附过程的吸附热较物理吸附过程大。在吸附过程中，物理吸附和化学吸附之间没有严格的界限，同一物质在较低温度下可能发生物理吸附，而在较高温度下往往是化学吸附。活性炭纤维吸附以物理吸附为主，但由于表面活性剂的存在，也有一定的化学吸附作用。镇江焚烧废气处理成本小 常见的产生等离子体的方法是气体放电，所谓气体放电是指通过某种机制使一电子从气体原子或分子中电离出来，形成的气体媒质称为电离气体，如果电离气由外电场产生并形成传导电流，这种现象称为气体放电。根据放电产生的机理、气体的压j源性质以及电极的几何形状、气体放电等离子体主要分为以下几种形式：①辉光放电；③介质阻挡放电；④射频放电；⑤微波放电。无论哪一种形式产生的等离子体，都需要高压放电。容易打火产生危险。由于对诸如气态污染物的治理，一般要求在常压下进行。活性炭吸附塔设备特点：有机废气活性碳吸附塔广泛用于家具木业、化工涂料、金属表面处理等喷涂、喷漆、烘干等产生有机废气及异味场所，采用优质吸附活性碳作为吸附媒介，有机废气通过多层吸附层进行过滤吸附，从而达到净化废气的目的。?工艺(主要技术)特点：?◆?分为手动式和自动式两种，结构紧凑一体化，易于安装和操作维护；?◆?滤速高，处理量大，运行效果稳定，设备占地少；?◆?滤料截污容量大，孔隙率高，耐摩擦，比重适中。活性炭吸附塔设备特点：有机废气活性碳吸附塔广泛用于家具木业、化工涂料、金属表面处理等喷涂、喷漆、烘干等产生有机废气及异味场所，采用优质吸附活性碳作为吸附媒介，有机废气通过多层吸附层进行过滤吸附，从而达到净化废气的目的。?工艺(主要技术)特点：?◆?分为手动式和自动式两种，结构紧凑一体化，易于安装和操作维护；?◆?滤速高，处理量大，运行效果稳定，设备占地少；?◆?滤料截污容量大，孔隙率高，耐摩擦，比重适中。
镇江焚烧废气处理成本小 废气处理设备多介质催化氧化工艺原理：反应塔内装填特制的固态填料，填料内部复配多介质催化剂。当恶臭气体在引风机的作用下穿过填料层，与通过特制喷嘴呈发散雾状喷出的液相复配氧化剂在固相填料表面充分接触，并在多介质催化剂的催化作用下，恶臭气体中的污染因子被充分分解。适用范围：适用范围广，尤其适用于处理大气量、中高浓度的废气，对疏水性污染物质有很好的去除率。优点：占地小，低，运行成本低；管理方便，即开即用。缺点：耐冲击负荷，不易污染物浓度及温度变化影响，需消耗一定量的药剂。??酸雾净化设备（以立式为例）是属于两相逆流填料吸收塔。废气从塔体下方进气口沿切线方向进入净化塔，在通风机的动力作用下，迅速充满进气段空间，然后均匀地通过均流段上升到第一级填料吸收段。在填料的表面上，气相中酸性物质与液相中碱性物质发生化学反应。反应生成物质多数为可溶性盐类，随吸收液流入下部储液槽。未被吸收的酸性气体继续上升进入第一级喷淋段。在喷淋段中由喷嘴形成的无数细小吸收液雾滴与气体混合接触，继续进行化学反应。然后上升到第二级填料段、喷淋段，进行与第一级同样的处理过程。第二级与第一级喷嘴密度不同，喷淋液压力不同，吸收反应的强度及范围也有所不同。在喷淋段及填料表面气液两相接触反应过程，是传热与传质的过程。通过控制空塔流速及滞留时间保证这一过程的充分与稳定。对于化学活性较高的酸性气体，采用中性水吸收便可达到足够的净化效率，而对于某些活性活泼性较差的物质，尚需在吸收液中加入一定量的表面活性剂，在塔体上部件设有雾段，气体中夹带的吸收液雾滴在这里被下来。经处理后的清洁空气从净化塔上端排入大气。从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是最广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
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